kompakte Sputteranlage, Bedampfungsanlage, Hochvakuumanlage

Kompakte Hochvakuum Beschichtungsanlage MIA®200 mit Turbopumpe Auch als Hoch Vakuum Sputteranlage mit 5" Kathode(1 oder 2 Stück), Drehteller und optionaler Substratheizung DC- oder HF-Sputtern Gerade auch im (Entwicklungs-)Labor wird oft "mal eben" Vakuum benötigt, um eine Funktion oder ein Gerät testen oder betreiben zu können. Als unkompliziertes und preiswertes Hilfsmittel bieten wir die Vakuum-Plattform MIA®200 an. Diese kompakte Anlage kann problemlos auf jedem Tisch aufgestellt werden. In den meisten Fällen genügt ein 230 V/16 A Anschluss. Auf der Basis eines Rezipienten mit DN200ISO Flanschen können ganz unterschiedliche Vakuum-Umgebungen konfiguriert werden. MIA®200basic In der Basisversion besitzt die MIA®200 einen Turbopumpstand HiCube80 mit Membran-Vorpumpe von Pfeiffer Vacuum, wobei die Turbopumpe direkt am Kammerboden angeflanscht ist. Zur Druckmessung dient eine, ebenfalls am Kammerboden angebrachte, Pirani-Messröhre mit Anzeigeinstrument. An der Kammer befinden sich in dieser Version 3 Blindflansche der Dimension DN200ISO. Kammergröße und -geometrie, Typ und Größe des Pumpstands sowie der Typ der Vakuummessung können in weiten Grenzen den Wünschen des Kunden angepasst werden.